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    纯铜离子接地由于其良好的性能,优良的导电性能及的设计工艺,被广泛应用于通信、电力、石化、金融、网络、电子等重要场所的接地工程。
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    纯铜由于其良好的性能,优良的导电性能及的设计工艺,被广泛应用于通信、电力、石化、金融、网络、电子等重要场所的接地工程,尤其适合土壤条件恶劣,施工条件受到限制,技术标准要求高的接地工程。

    纯铜离子接地制作工艺:

    1、离子电管:采用紫铜管材,管内壁采用新陶瓷镀膜技术处理,具有的耐强酸、强碱性能;管外壁喷涂一层高分子导电材料,具有优良能力和低的电阻率。管上端和下端分别设计了水分吸收孔和离子释放孔。

    2、离子电内部离子发生装置:填充在管内部,具有的离子释放性能,并具备吸水保湿 ﹑电离导电﹑ 、缓释功能。

    3、离子电外部填充料:非金属导电材料,环保,添加有吸水保湿、凝固、渗透以及土壤改良成分,与管内释放出的电解离子相互作用,可以持续周围土壤的导电性能,达到接地降阻的效果。

    纯铜离子接地土壤腐蚀的电过程:

    纯铜离子接地在潮湿的土壤中的阳过程与在溶液中腐蚀时的情况类似,阳过程没有明显的阻碍。若土壤的透气性不良且含有氯离子等腐蚀性离子,碳钢的阳溶解化率较低,并决定于其离子化反应的过电位。碳钢在干燥且透气性良好的土壤中,阳过程因离子化困难发生很大的化。在长时间的腐蚀过程中,由于腐蚀的次生反应所生成的不溶性腐蚀产物的屏蔽作用,阳化进一步增大。电解离子接地在土壤中腐蚀时的阴过程主要是氧的去化。在强酸性土壤中,氢的去化过程也可能参与进行。在某些情况下,还可能发生有微生物参与的阴还原过程。

    纯铜离子接地施工说明:

    1、钻孔

    按设计要求在预先选好的施工场地钻出直径、均大于待安装电解离子接地100mm的安装孔洞;

    2、配制填充剂

    用水调和填充剂、引发剂至糊状,搅拌均匀;

    3、预灌注

    将四分之一配制好的填充剂填入孔洞底部;

    4、植入接地

    拆开电解离子接地二端密封胶带,将接地植入孔洞中,接地顶部与地平面平齐,将其余填充剂灌注至接地100mm处;

    5、加防护帽

    为日后维护检测方便,电解离子接地可配套接地观测井使用。

    注:当一套离子接地达不到地阻要求时,可用二套或几套并联使用,离子接地与离子接地之间的间隔不宜小于5M;引出线采用铜包钢绞线做引出线与离子接地体实行压接,接点处理。


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